- 等離子去膠機(jī):用于去除基片表面刻蝕工藝過(guò)程中作為刻蝕材料保護(hù)膜的光刻膠掩膜,也可用于基片表面其它有機(jī)物的等離子體清洗。
氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機(jī)反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強(qiáng)的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。
觸摸屏操作界面
數(shù)字及圖標(biāo)多重工藝參數(shù)實(shí)時(shí)顯示
三色燈異常報(bào)警功能
自動(dòng)/手動(dòng)操作模式切換
可存儲(chǔ)多套工藝配方
遠(yuǎn)程操控，數(shù)據(jù)導(dǎo)出（可選）
特殊電極、保溫、氣路設(shè)計(jì)，均勻性好
適用4寸以下硅晶圓的批量處理
用于去除基片表面刻蝕工藝過(guò)程中作為刻蝕材料保護(hù)膜的光刻膠掩膜,也可用于基片表面其它有機(jī)物的等離子體清洗。
型號(hào) | ASR-36L | |
控制系統(tǒng) | 控制方式 | 全自動(dòng)控制（自動(dòng)/手動(dòng)切換） |
PLC（標(biāo)配）/PC（可選） | ||
操作系統(tǒng) | Windows 10 | |
觸摸屏 | 7寸 | |
整機(jī)規(guī)格 | 尺寸 | W950×D1050×H1700mm |
腔體 | 尺寸 | Φ360×D360mm |
材質(zhì) | 鋁合金（標(biāo)配）/不銹鋼（可選） | |
電極 | 尺寸 | W250×D310×H140mm |
層數(shù) | 2層 | |
托架 | 材質(zhì) | 鋁合金（標(biāo)配）/石英（可選） |
套數(shù) | 1套 | |
真空計(jì) | 皮拉尼式真空計(jì) | 1個(gè) |
流量計(jì) | MFC質(zhì)量流量控制器 | 3個(gè)；Ar、N2、O2、CF4（可選） |
真空泵 | 干式泵 | 1套 |
發(fā)生器 | 射頻 | 13.56MHz，0~1000W |
額定功率 | 整機(jī)峰值功率 | 13KW |
機(jī)臺(tái)供電 | 三相五線(xiàn)式 | AC-380V |
選購(gòu)品 | 防腐流量計(jì)、防腐真空計(jì)、防腐真空泵、防腐密封圈、石英舟、溫度傳感器、慢速泄氣閥、慢速抽氣閥、鋼瓶減壓閥、非標(biāo)法蘭、陶瓷緊固件 | |
