在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,等離子清洗設(shè)備利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。如圖所示:
觸摸屏操作界面
數(shù)字及圖標(biāo)多重工藝參數(shù)實(shí)時(shí)顯示
整體小巧便于移動(dòng)
自動(dòng)/手動(dòng)操作模式切換
可存儲(chǔ)多套工藝配方
v用于不同材料的表面處理
v適合于研究所、大學(xué)院校、研發(fā)中心使用
型號(hào) | PM-20LN 桌面型等離子清洗機(jī)設(shè)備 |
主機(jī)尺寸 | W600×D500×H700 mm |
主機(jī)重量 | 80Kg |
額定功率 | AC220V 約2.5KW |
設(shè)備顏色 | 珍珠白 |
真空腔體尺寸 | W280×D280×H200 mm |
觀察窗 | L200*H160mm |
操作系統(tǒng) | 中文系統(tǒng) 觸摸屏 |
真空泵系統(tǒng) | 油泵 |
電極結(jié)構(gòu) | 定制型水平電極 |
工作真空度 | 20-60pa |
抽真空能力 | 空載90秒以內(nèi)抽到30pa以內(nèi) |
破空時(shí)間 | 20秒 |
氣體控制系統(tǒng) | 電磁閥控制 |
等離子發(fā)生器 | 0-1000W高頻 |