在線等離子表面處理機(jī)是一種集成于生產(chǎn)線的自動(dòng)化表面處理設(shè)備，通過(guò)等離子體技術(shù)對(duì)材料表面進(jìn)行清潔、活化、刻蝕或涂層等處理，顯著改善材料表面性能。
技術(shù)特點(diǎn)
優(yōu)勢(shì) | 應(yīng)用價(jià)值 |
高效連續(xù)作業(yè) | 與生產(chǎn)線無(wú)縫對(duì)接，處理速度快（如半導(dǎo)體晶圓每小時(shí)處理數(shù)百片），適合大規(guī)模量產(chǎn)。 |
表面改性精準(zhǔn)可控 | 可通過(guò)調(diào)節(jié)氣體種類、功率、時(shí)間等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)從納米級(jí)清潔到微米級(jí)刻蝕的精確控制。 |
無(wú)化學(xué)污染 | 干法工藝無(wú)需溶劑，減少?gòu)U水 / 廢氣排放，符合環(huán)保要求（如歐盟 REACH 法規(guī)）。 |
材料兼容性廣 | 適用于金屬、塑料（如 PP/PE）、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體（Si、GaN）、柔性電子（PI 膜）等。 |
多功能集成 | 可同步實(shí)現(xiàn)清潔、活化、刻蝕、沉積（如 PECVD 涂層）等多種功能。 |
低損傷處理 | 常壓等離子能量較低，適合對(duì)熱敏感材料（如生物芯片、光學(xué)薄膜）的表面改性。 |
技術(shù)參數(shù)
參數(shù) | 典型范圍 | 影響因素 |
處理寬度 | 100~2000mm（取決于噴嘴 / 腔室尺寸） | 生產(chǎn)線寬度、材料規(guī)格 |
功率密度 | 0.1~10W/cm2（射頻）、10~100W/cm2（微波） | 材料厚度、處理深度要求 |
氣體壓力 | 真空型：10~1000Pa；常壓型：大氣壓 | 等離子體類型（真空 / 常壓） |
處理速度 | 0.1~10m/min（常壓）、0.01~1m/min（真空） | 材料敏感度、工藝復(fù)雜度 |
均勻性 | ±5%（表面能或刻蝕厚度） | 等離子體分布、傳動(dòng)穩(wěn)定性 |
