非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中的應(yīng)用。

今天我們來(lái)聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用，說(shuō)起半導(dǎo)體清洗，是指對(duì)晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗，用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測(cè)試每個(gè)步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì)，避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率，為企業(yè)實(shí)現(xiàn)降本增效的目的。

-半導(dǎo)體清洗在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中占有舉足輕重的位置，可以說(shuō)清洗工藝貫穿整個(gè)半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程。

在硅片制造環(huán)節(jié)，經(jīng)拋光后的硅片，需要通過(guò)非接觸精密除塵設(shè)備這樣的清洗工藝來(lái)保證其表面的平整度和性能，從而提高在后續(xù)工藝中的良率；

在晶圓制造環(huán)節(jié)，晶圓經(jīng)過(guò)光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵工序前后均需要清洗，去除晶圓沾染的化學(xué)雜質(zhì)，減小缺陷率；

在芯片封裝階段，芯片需要根據(jù)封裝工藝進(jìn)行 TSV( 硅穿孔)清洗、除塵、UBMRDL(凸點(diǎn)底層金屬/薄膜再分布技術(shù))清洗、除塵。

前面說(shuō)了清洗工藝占據(jù)整個(gè)半導(dǎo)體生產(chǎn)的過(guò)程，目前市場(chǎng)上的清洗工藝分為濕法清洗和干法清洗；濕法清洗主要分為溶液浸泡法、機(jī)械擦拭法、兆聲波清洗等；干法清洗主要分為旋風(fēng)式清洗、擦拭式清潔、超聲波式、等離子式清潔等。

目前市場(chǎng)上70%左右的企業(yè)都使用濕法清洗，而干法清洗正在不斷的被人們所熟知以及應(yīng)用，原因在于精密器件、高精尖的材料或者特殊材料需要干式清洗。從工藝環(huán)保角度，干式是物理清潔方式，濕式則是化學(xué)性處理方式，所以干式清洗不容易損害產(chǎn)品。